
Плазменная очистка — это технология, использующая высокоактивные компоненты (такие как электроны, ионы, свободные радикалы и т. д.) ионизированного газа (плазмы) для удаления с поверхности органических загрязнений, оксидов или улучшения поверхностных свойств материалов.
Плазменная очистка — это технология, использующая высокоактивные компоненты (такие как электроны, ионы, свободные радикалы и т. д.) ионизированного газа (плазмы) для удаления с поверхности органических загрязнений, оксидов или улучшения поверхностных свойств материалов. Основное оборудование обычно включает в себя:
Плазменный генератор: создает высокочастотное (ВЧ, СВЧ и т. д.) или постоянное электрическое поле для ионизации газа.
Вакуумная камера (или система нормального давления): обеспечивает контролируемую реакционную среду.
Система подачи газа: транспортирует технологические газы (такие как O₂, Ar, N₂, CF₄ и т. д.).
Система управления: регулирует такие параметры, как мощность, давление газа и время.
Основные компоненты: анод и катод, которые непосредственно влияют на возбуждение, пропускание и очищающий эффект плазмы.
Мы специализируемся на разработке и производстве высокопроизводительных анодов и катодов для плазменной очистки, поставляя ключевые компоненты для таких отраслей, как производство полупроводников, медицинских приборов и новой энергетики, обеспечивая эффективные и стабильные процессы очистки.
(1) Анод для плазменной очистки
Функция: точное направление плазменного луча для управления диапазоном и равномерностью очистки.
Упаковка полупроводников (удаление оксидов подкладок)
Производство дисплеев (очистка ITO-стекла)
Активация поверхности медицинских катетеров
(2) Катод для плазменной очистки
Функция: Эффективно возбуждает плазму, влияя на распределение энергии и скорость очистки.
Материалы с высокой проводимостью и устойчивостью к высоким температурам:
Посеребренные медные катоды: низкий импеданс, подходят для высокочастотных РЧ-приложений.
Вольфрамовые катоды: устойчивы к распылению, подходят для травления с высокой мощностью.
Конструкция:
1. Игольчатые катоды: высокоточная позиционировка для обработки микроструктур.
2. Варианты охлаждения: выбор между водяным и воздушным охлаждением для предотвращения деформации при высоких температурах.
Фотоэлектрические элементы (очистка поверхности кремниевых пластин)
Прецизионные оптические компоненты (предварительная обработка покрытия)
Детали, напечатанные на 3D-принтере (удаление остатков порошка)
Высокая надежность — строго подобранные материалы обеспечивают долговременную стабильную работу.
Индивидуальная поддержка — оптимизированная конструкция, разработанная с учетом технологических требований заказчика.